EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
300 mm keramisk isolator til kildeadapter
AMAT 0200-07442 300 mm Source Adapter Keramisk Isolator er en højpræcisions OEM-komponent designet til avanceret halvleder-tyndfilmbehandlingsudstyr. Den er fremstillet af Al₂O₃ (aluminiumoxid) med høj renhed og giver overlegen elektrisk isolering under højfrekvente RF-forhold, samtidig med at plasmastabilitet og mekanisk integritet opretholdes. Denne keramiske isolator fungerer som en strukturel og dielektrisk bro mellem RF-strømforsyningssystemet og den øvre elektrode eller brusehovedenheden, hvilket sikrer ensartet plasmagenerering på tværs af 300 mm wafere. Med fremragende termisk stabilitet, kemisk resistens og lav partikelgenerering er den ideel til PECVD-, PVD- og ætseplatforme. Vi byder velkommen til din forespørgsel.
Beskrivelse
AMAT 300 mm Source Adapter keramisk isolator er en kritisk komponent i avanceret halvleder-tyndfilmsbehandlingsudstyr fremstillet af Semixlab. Denne keramiske isolator er specielt designet til 300 mm waferplatforme og fungerer som en yderst pålidelig grænseflade mellem RF-strømforsyningssystemer og kildekomponenter i proceskamre.
I systemer som plasmaforstærket kemisk dampaflejring (PECVD), fysisk dampaflejring (PVD) og ætsningsplatforme spiller denne komponent en afgørende rolle i at opretholde elektrisk isolation, plasmastabilitet og mekanisk integritet. Som en ikke-forbrugelig, men præstationskritisk del påvirker den direkte proceskonsistens, udbytte og udstyrets oppetid.
Materialevalg
Højrent aluminiumoxid (Al₂O₃) blev valgt som substratmateriale på grund af dets dokumenterede overlegne ydeevne i plasmaintensive halvledermiljøer. Aluminiumkeramik tilbyder en optimal balance mellem elektriske, termiske og kemiske egenskaber, hvilket sikrer langvarig stabil drift.
Vigtige materialefordele inkluderer:
● Høj dielektrisk styrke: Sikrer effektiv isolering under højfrekvente RF-felter og forhindrer lækage og lysbueudladning.
● Fremragende plasmaresistens: Opretholder strukturel integritet under ionbombardement og eksponering for reaktive gasser.
● Lav risiko for kontaminering: Højrent aluminiumoxid minimerer partikelgenerering og opfylder strenge standarder for renrum.
● Termisk stabilitet: Modstår gentagne termiske cyklusser uden deformation eller forringelse af ydeevnen.
Sammenlignet med andre keramiske materialer såsom aluminiumnitrid (AlN) eller siliciumcarbid (SiC) er aluminiumoxid (Al₂O₃) en omkostningseffektiv og industrielt gennemprøvet løsning, der er meget anvendt i applikationer som isolatorer, ringe og bøsninger til OEM-platforme til halvledere.
Produktstruktur og funktionelt design
Den keramiske isolator AMAT 0200-07442 er designet som en source-adapter, der integrerer strukturelle og elektriske funktioner i en enkelt præcisionskomponent.
Dens kernefunktioner omfatter:
Elektrisk isolering (primær funktion)
Denne isolator isolerer højspændings-RF-strømforsyningskomponenter fra den jordforbundne kammerstruktur og sikrer dermed sikker og stabil drift af plasmasystemet.
Plasmamiljøstabilitet
Ved at opretholde en ensartet dielektrisk grænseflade hjælper denne komponent med at skabe en ensartet elektrisk feltfordeling, hvilket er afgørende for at opnå ensartet plasmatæthed og filmensartethed.
Mekanisk støtte og justering
Adapteren yder strukturel støtte til den øverste elektrode eller sprøjtehovedenheden, hvilket sikrer, at kritiske tolerancer – såsom planhed, koncentricitet og justeringsnøjagtighed – opretholdes under 300 mm waferbearbejdning.
Termisk stresshåndtering
Denne komponent er designet til at modstå procestemperaturer og mekaniske belastninger og hjælper med at mindske spændingsakkumulering og sikre langvarig pålidelighed.
Dette multifunktionelle design afspejler en bredere tendens inden for halvlederhardwaresektoren mod at integrere elektriske, mekaniske og termiske funktioner i avancerede keramiske komponenter.
Vores tjenester
Semixlab Produktbutik
